Bibliographie & annexes
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RÉSUMÉ
L’exploitation de nanosources pour photostructurer la matière de façon contrôlée avec une résolution très inférieure à la longueur d’onde de la lumière, ouvre la voie à une approche prometteuse de nanolithographie utilisant les photons comme vecteurs d’écriture. Les applications visées vont bien au-delà du domaine de la microélectronique puisqu’elles concernent aussi bien le stockage optique haute densité que la manipulation de molécules.
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The use of nano-sources to induce a photostructure transformation of matter in a controlled manner, with a resolution much lower than the wavelength of light, paves the way for a promising approach to nanolithography which uses photons as a writing medium. The targeted applications go well beyond the field of microelectronics since they involve both high-density optical storage and molecular manipulation.
Auteur(s)
INTRODUCTION
L'exploitation de nanosources pour photostructurer la matière de façon contrôlée avec une résolution très inférieure à la longueur d'onde de la lumière, ouvre la voie à une approche prometteuse de nanolithographie utilisant les photons comme vecteurs d'écriture.
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Nanophotolithographie en champ proche
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3. Exploitation de l'optique de champ proche
Avec l'avènement de la microscopie/spectroscopie optique en champ proche, suivi de celui de la nanooptique et de la nanophotonique , l'exploitation de la lumière en champ proche s'est depuis 20 ans avérée comme une alternative élégante et prometteuse à l'obtention d'une résolution non limitée par la longueur d'onde de la lumière.
3.1 Principe
La figure 3 illustre les propriétés du champ proche optique. Lorsqu'un objet planaire (plan x,y ) est éclairé par une onde plane, il diffracte la lumière sous la forme d'un spectre angulaire d'onde planes :
( 1 )
Cette expression est issue de la théorie de Fourrier de la diffraction, conséquence du principe d'Hyugens Fresnel, décrite avec talent par Goodman en 1968 puis Massey ...
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Exploitation de l'optique de champ proche
BIBLIOGRAPHIE
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(3) - SWITKES (M.), ROTHSCHILD (M.), KUNZ (R.R.), BAEK (S.-Y.), COLES (D.), YEUNG (M.) - Immersion lithography : Beyond the 65 nm node with optics. - Microlithography World, p. 4, mai 2003.
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(5) - NOVOTNY (L.), HECHT (B.) - Principles of Nanooptics. - Cambridge Press (2007).
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(6) - LOURTIOZ (J.M.), TCHELNOKOV (A.) - Nanophotonique et Micro-Nanotechnologies. - Techniques de l'ingénieur. Nanotechnologies...
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