Bibliographie & annexes
Présentation
English
RÉSUMÉ
L’exploitation de nanosources pour photostructurer la matière de façon contrôlée avec une résolution très inférieure à la longueur d’onde de la lumière, ouvre la voie à une approche prometteuse de nanolithographie utilisant les photons comme vecteurs d’écriture. Les applications visées vont bien au-delà du domaine de la microélectronique puisqu’elles concernent aussi bien le stockage optique haute densité que la manipulation de molécules.
Lire cet article issu d'une ressource documentaire complète, actualisée et validée par des comités scientifiques.
Lire l’articleAuteur(s)
INTRODUCTION
L'exploitation de nanosources pour photostructurer la matière de façon contrôlée avec une résolution très inférieure à la longueur d'onde de la lumière, ouvre la voie à une approche prometteuse de nanolithographie utilisant les photons comme vecteurs d'écriture.
L'expertise technique et scientifique de référence
DOI (Digital Object Identifier)
CET ARTICLE SE TROUVE ÉGALEMENT DANS :
Accueil > Ressources documentaires > Électronique - Photonique > Optique Photonique > Nano-optique > Nanophotolithographie en champ proche > Nanophotolithographie en champ proche
Accueil > Ressources documentaires > Sciences fondamentales > Nanosciences et nanotechnologies > Nanomatériaux : synthèse et élaboration > Nanophotolithographie en champ proche > Nanophotolithographie en champ proche
Cet article fait partie de l’offre
Nanosciences et nanotechnologies
(150 articles en ce moment)
Cette offre vous donne accès à :
Une base complète d’articles
Actualisée et enrichie d’articles validés par nos comités scientifiques
Des services
Un ensemble d'outils exclusifs en complément des ressources
Un Parcours Pratique
Opérationnel et didactique, pour garantir l'acquisition des compétences transverses
Doc & Quiz
Des articles interactifs avec des quiz, pour une lecture constructive
Présentation
Conclusion
English
4. Nanophotolithographie en champ proche
Afin de mettre en œuvre une nanophotolithographie en champ proche, trois points clés ont du être traités :
-
la connaissance et la qualité (puissance et taille) de la source optique ;
-
la réponse intrinsèque du matériau photosensible;
-
la distance entre le matériau et la source.
De manière générale, comme illustré sur la figure 8, le domaine de la nanophotolithographie est motivé par trois points abordés en général simultanément. C'est la cohabitation de ces trois points qui rend cette approche particulièrement riche :
-
la meilleure connaissance de la nanosource optique : les molécules/atomes du matériau photosensible jouent le rôle de sondes du champ électromagnétique local (notion de photographie en champ proche) ;
-
la meilleure connaissance des propriétés du matériau photosensible : le fait de disposer d'un éclairage local permet d'aborder une photochimie des matériaux à une échelle jusqu'ici non explorée par les photochimistes ;
-
la nanostructuration et la manipulation de la matière en utilisant les photons.
4.1 Sur polymères
4.1.1 Résines photosensibles « classiques »
La lithographie sur polymères photosensibles est aujourd'hui la plus utilisée dans l'industrie de la microélectronique. Deux familles de polymère, illustrées figure 9, sont principalement utilisées.
La première famille (figure 9a ) contient les résines dites « positives ». Elles sont constituées d'une résine polymère, souvent désignée par le terme générique « novolak », qui est un Crésol/Formaldéhyde, et d'un composé actif, la diazonaphtoquinone (DNQ). Ce mélange matrice+composé est peu soluble dans un développeur (vitesse de dissolution d'environ 100 Å · s–1). Sous l'action de la lumière, le DNQ réagit et se transforme (photolyse = brisure de chaînes)....
L'expertise technique et scientifique de référence
Cet article fait partie de l’offre
Nanosciences et nanotechnologies
(150 articles en ce moment)
Cette offre vous donne accès à :
Une base complète d’articles
Actualisée et enrichie d’articles validés par nos comités scientifiques
Des services
Un ensemble d'outils exclusifs en complément des ressources
Un Parcours Pratique
Opérationnel et didactique, pour garantir l'acquisition des compétences transverses
Doc & Quiz
Des articles interactifs avec des quiz, pour une lecture constructive
Nanophotolithographie en champ proche
BIBLIOGRAPHIE
-
(1) - Bulletin MRS (Materials Research Society) - Fabrication of sub-45 nm structures for the next generation of devices. - Vol. 30, n˚ 12, déc. 2005.
-
(2) - RONSE (K.) - Optical lithography – a historical perspective. - C. R. Physique, doi : 10.1016/j.chry.2006.10.007 (2006).
-
(3) - SWITKES (M.), ROTHSCHILD (M.), KUNZ (R.R.), BAEK (S.-Y.), COLES (D.), YEUNG (M.) - Immersion lithography : Beyond the 65 nm node with optics. - Microlithography World, p. 4, mai 2003.
-
(4) - COURJON (D.) - Near-field microscopy and near-field optics. - Imperial College Press, Londre (2003).
-
(5) - NOVOTNY (L.), HECHT (B.) - Principles of Nanooptics. - Cambridge Press (2007).
-
(6) - LOURTIOZ (J.M.), TCHELNOKOV (A.) - Nanophotonique et Micro-Nanotechnologies. - Techniques de l'ingénieur. Nanotechnologies...
L'expertise technique et scientifique de référence
Cet article fait partie de l’offre
Nanosciences et nanotechnologies
(150 articles en ce moment)
Cette offre vous donne accès à :
Une base complète d’articles
Actualisée et enrichie d’articles validés par nos comités scientifiques
Des services
Un ensemble d'outils exclusifs en complément des ressources
Un Parcours Pratique
Opérationnel et didactique, pour garantir l'acquisition des compétences transverses
Doc & Quiz
Des articles interactifs avec des quiz, pour une lecture constructive
