Bibliographie & annexes
Présentation
En anglais
RÉSUMÉ
L’exploitation de nanosources pour photostructurer la matière de façon contrôlée avec une résolution très inférieure à la longueur d’onde de la lumière, ouvre la voie à une approche prometteuse de nanolithographie utilisant les photons comme vecteurs d’écriture. Les applications visées vont bien au-delà du domaine de la microélectronique puisqu’elles concernent aussi bien le stockage optique haute densité que la manipulation de molécules.
Lire cet article issu d'une ressource documentaire complète, actualisée et validée par des comités scientifiques.
Lire l’articleABSTRACT
The use of nano-sources to induce a photostructure transformation of matter in a controlled manner, with a resolution much lower than the wavelength of light, paves the way for a promising approach to nanolithography which uses photons as a writing medium. The targeted applications go well beyond the field of microelectronics since they involve both high-density optical storage and molecular manipulation.
Auteur(s)
INTRODUCTION
L'exploitation de nanosources pour photostructurer la matière de façon contrôlée avec une résolution très inférieure à la longueur d'onde de la lumière, ouvre la voie à une approche prometteuse de nanolithographie utilisant les photons comme vecteurs d'écriture.
L'expertise technique et scientifique de référence
DOI (Digital Object Identifier)
CET ARTICLE SE TROUVE ÉGALEMENT DANS :
Accueil > Ressources documentaires > Sciences fondamentales > Nanosciences et nanotechnologies > Nanomatériaux : synthèse et élaboration > Nanophotolithographie en champ proche > Exploitation de l'optique de champ proche
Accueil > Ressources documentaires > Innovation > Nanosciences et nanotechnologies > Nanomatériaux : synthèse et élaboration > Nanophotolithographie en champ proche > Exploitation de l'optique de champ proche
Cet article fait partie de l’offre
Optique Photonique
(221 articles en ce moment)
Cette offre vous donne accès à :
Une base complète d’articles
Actualisée et enrichie d’articles validés par nos comités scientifiques
Des services
Un ensemble d'outils exclusifs en complément des ressources
Un Parcours Pratique
Opérationnel et didactique, pour garantir l'acquisition des compétences transverses
Doc & Quiz
Des articles interactifs avec des quiz, pour une lecture constructive
Présentation
Nanophotolithographie en champ proche
En anglais
3. Exploitation de l'optique de champ proche
Avec l'avènement de la microscopie/spectroscopie optique en champ proche, suivi de celui de la nanooptique et de la nanophotonique , l'exploitation de la lumière en champ proche s'est depuis 20 ans avérée comme une alternative élégante et prometteuse à l'obtention d'une résolution non limitée par la longueur d'onde de la lumière.
3.1 Principe
La figure 3 illustre les propriétés du champ proche optique. Lorsqu'un objet planaire (plan x,y ) est éclairé par une onde plane, il diffracte la lumière sous la forme d'un spectre angulaire d'onde planes :
( 1 )
Cette expression est issue de la théorie de Fourrier de la diffraction, conséquence du principe d'Hyugens Fresnel, décrite avec talent par Goodman en 1968 puis Massey ...
L'expertise technique et scientifique de référence
Cet article fait partie de l’offre
Optique Photonique
(221 articles en ce moment)
Cette offre vous donne accès à :
Une base complète d’articles
Actualisée et enrichie d’articles validés par nos comités scientifiques
Des services
Un ensemble d'outils exclusifs en complément des ressources
Un Parcours Pratique
Opérationnel et didactique, pour garantir l'acquisition des compétences transverses
Doc & Quiz
Des articles interactifs avec des quiz, pour une lecture constructive
Exploitation de l'optique de champ proche
BIBLIOGRAPHIE
-
(1) - Bulletin MRS (Materials Research Society) - Fabrication of sub-45 nm structures for the next generation of devices. - Vol. 30, n˚ 12, déc. 2005.
-
(2) - RONSE (K.) - Optical lithography – a historical perspective. - C. R. Physique, doi : 10.1016/j.chry.2006.10.007 (2006).
-
(3) - SWITKES (M.), ROTHSCHILD (M.), KUNZ (R.R.), BAEK (S.-Y.), COLES (D.), YEUNG (M.) - Immersion lithography : Beyond the 65 nm node with optics. - Microlithography World, p. 4, mai 2003.
-
(4) - COURJON (D.) - Near-field microscopy and near-field optics. - Imperial College Press, Londre (2003).
-
(5) - NOVOTNY (L.), HECHT (B.) - Principles of Nanooptics. - Cambridge Press (2007).
-
(6) - LOURTIOZ (J.M.), TCHELNOKOV (A.) - Nanophotonique et Micro-Nanotechnologies. - Techniques de l'ingénieur. Nanotechnologies...
L'expertise technique et scientifique de référence
Cet article fait partie de l’offre
Optique Photonique
(221 articles en ce moment)
Cette offre vous donne accès à :
Une base complète d’articles
Actualisée et enrichie d’articles validés par nos comités scientifiques
Des services
Un ensemble d'outils exclusifs en complément des ressources
Un Parcours Pratique
Opérationnel et didactique, pour garantir l'acquisition des compétences transverses
Doc & Quiz
Des articles interactifs avec des quiz, pour une lecture constructive
