Contexte
Nanophotolithographie en champ proche

Une branche importante des nanotechnologies est la nanostructuration qui implique un nombre important de challenges économiques et scientifiques. En particulier, les technologies modernes reposent sur des systèmes de plus en plus réduits et performants qui ne peuvent être technologiquement viables à long terme que si leur coût reste raisonnable. Depuis quelques années, les efforts ont été croissants pour miniaturiser les systèmes électroniques et optiques afin d'intégrer des fonctions supplémentaires et d'augmenter leurs performances. Un exemple caractéristique est celui des processeurs des ordinateurs dont la puissance ne fait que croître depuis 1980. Cette croissance est décrite par la loi de Moore qui prévoit que la taille des composants de la microélectronique soit divisée par deux tous les 18 mois. La lithographie optique est la technique la plus utilisée pour la fabrication de masse de l'industrie électronique. Des efforts considérables ont été entrepris pour suivre la loi de Moore. Il est cependant de moins en moins possible de suivre cette loi car la résolution spatiale de la lithographie optique est théoriquement limitée par le phénomène de diffraction à la demi-longueur d'onde effective de la lumière. La tendance actuelle de la lithographie optique est de diminuer la longueur d'onde afin d'améliorer la résolution. En parallèle à l'optimisation et à l'amélioration de la lithographie optique, afin d'ouvrir d'autres voies pour poursuivre la course à la résolution, de nouvelles approches ont été introduites. Ces approches sont décrites dans un bulletin récent de la MRS ...