Présentation
EnglishAuteur(s)
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Danièle BLANC PELISSIER : Chargée de recherche CNRS - Institut des nanotechnologies de Lyon, CNRS, INSA de Lyon et université de Lyon, Villeurbanne, France
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Nathanaelle SCHNEIDER : Chargée de recherche CNRS - Institut de recherche et développement de l’énergie photovoltaïque (IRDEP), UMR 7174 EDF-CNRS-Chimie ParisTech, Chatou, France - Institut du Photovoltaïque d’Ile de France (IPVF)
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La conversion photovoltaïque (PV) est une composante incontournable du mix énergétique et connait une très forte croissance grâce aux baisses de coûts combinées aux politiques de soutien et aux avancées technologiques. Cet article analyse la contribution du dépôt par couche atomique ou ALD (Atomic Layer Deposition) aux technologies de cellules solaires.
L’ALD est une technique de dépôt chimique en phase vapeur qui permet la croissance de matériaux inorganiques en couches ultraminces, uniformes, conformes, d’épaisseur subnanométrique. Basée sur l’introduction séquentielle de précurseurs, elle met en jeu des réactions chimiques de surface et des mécanismes de saturation autolimitants qui permettent une ingénierie de matériaux à l’échelle atomique.
Les applications de l’ALD pour le PV sont diverses, avec des degrés de maturité différents : de la passivation de cellules de type industriel en silicium aux nouvelles architectures innovantes. Cet article présente les principales utilisations de l’ALD pour le PV et discute des atouts et des limites du procédé dans un domaine où toute innovation doit satisfaire aux contraintes de coûts, de dimensions et de stabilité dans le temps.
Nota : le lecteur trouvera en fin d’article un tableau des sigles, notations et symboles utilisés tout au long de l’article.
Domaine : Techniques de dépôt de couches minces
Degré de diffusion de la technologie : Croissance
Technologies impliquées : Dépôt par couche atomique (ALD, Atomic Layer Deposition)
Domaines d’application : Photovoltaïque
Principaux acteurs français :
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Pôles de compétitivité : Tenerrdis
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Centres de compétence : CEA-INES, IPVF, Institut des nanotechnologies de Lyon, IRDEP, Institut d’électronique, de microélectronique et de nanotechnologie (Lille), Laboratoire des matériaux et du génie physique (Grenoble)
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Industriels : Air Liquide, EDF, Encapsulix, Enhélios
Autres acteurs dans le monde :
Argonne National Laboratory, École Polytechnique Fédérale de Lausanne, Eindhoven University of Technology, Fraunhofer Institute for Solar Energy Systems, Stanford University, Nanyang Technological University, Uppsala University, Energy research Centre of the Netherlands (ECN), Beneq, Levitech, Picosun, SolayTec, Solliance, TNO.
Contact : [email protected], [email protected]
DOI (Digital Object Identifier)
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3. Applications de l’ALD pour les cellules solaires de 2e et 3e générations
Des ruptures économiques sont possibles par l’utilisation d’éléments abondants ou en quantités moindres, et par le développement de techniques de dépôt à bas coût. Ceci est l’un des enjeux des cellules solaires en couches minces (2e génération) et des concepts avancés souvent basés sur des nanostructures (3e génération). Ces technologies ont des degrés de maturité très divers, mais dans chacune d’elles les atouts de la technique ALD sont exploités.
Une application directe de l’ALD est l’encapsulation de cellules solaires sur substrats flexibles, qui doivent être protégées de l’humidité et de l’oxygène ambiants. En effet, la capacité de l’ALD à déposer, à basse température, des films inorganiques transparents au spectre solaire, couvrants, sans discontinuité, robustes mécaniquement, ainsi que le développement de réacteurs roll-to-roll permet une forte diminution des coûts. Ainsi, un film de 50-100 nm d’ALD-Al2O3 constitue une bonne couche d’encapsulation pour les cellules CIGS ou organiques (OPV) [RE261]. Les cellules solaires de 2e génération profitent aussi d’avancées effectuées pour celles à base c-Si : des nanopoints de contact arrière, similaires à ceux développés pour les cellules PERC ont permis le développement de cellules solaires CIGS ultrafines (épaisseur de l’absorbeur = 385 nm) avec un rendement η = 15,6 % (contre 9,1 % pour des contacts non passivés) ...
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Applications de l’ALD pour les cellules solaires de 2e et 3e générations
BIBLIOGRAPHIE
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(1) - GREEN (M.A.), EMERY (K.), HISHIKAWA (Y.), WARTA (W.), DUNLOP (E.D.) - « Solar cell efficiency tables (Version 45) », - Prog. Photovolt: Res. Appl., 23:1-9 (2015).
-
(2) - CLUGSTON (D.A.), BASORE (P.A.) - PC1D Version 5: 32-Bit solar cell modeling on personal computers. - 26th IEEE Photovoltaic Specialists Conference 207-210 (1997).
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(3) - HAYAFUJI (N.), ELDALLAL (G.M.), DIP (A.), COLTER (P.C.), EL-MASRY (N.A.), -BEDAIR (S.M.) - « Atomic layer epitaxy of device quality AlGaAs and AlAs ». Appl. Surf. Sci., - 82 18-22 (1994).
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(4) - BAKKE (J.R.), PICKRAHN (K.L.), BRENNAN (T.P.), BENT (S.F.) - « Nanoengineering and interfacial engineering of photo-voltaics by atomic layer deposition ». Nanoscale, - 3 3482-3508 (2011).
-
(5) - VAN DELFT (J.), GARCIA-ALONSO (D.), KESSELS (W.) - « Atomic layer deposition for photovoltaics: applications and prospects for solar cell manufacturing ». Semiconductor Science and Technology, - 27 074002 (2012).
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DANS NOS BASES DOCUMENTAIRES
PC1D (http://www.pveducation.org/pvcdrom/characterisation/pc1d) Logiciel libre de simulation (à une dimension) de cellules photovoltaïques
PV Lighthouse ( https://www.pvlighthouse.com.au/). Site de ressources et de calcul en ligne pour le photovoltaïque
HAUT DE PAGE
ALD Pulse
PVeducation
HAUT DE PAGE
Congrès : European PV Solar Energy Conference and Exhibition EU-PVSEC. Congrès (conférences + salon) ayant lieu chaque année dans une ville européenne. https://www.photovoltaic-conference.com/
Congrès : IEEE Photovoltaic Specialists Conference. European PV Solar Energy Conference and Exhibition EU-PVSEC. Congrès (conférence + salon) ayant lieu chaque année dans une ville américaine. http://www.ieee-pvsc.org/
Congrès : AVS-ALD conference....
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