- Article de bases documentaires : RECHERCHE ET INNOVATION
|- 10 oct. 2016
|- Réf : RE253
Cet article détaille le principe de la méthode de dépôt chimique par flux alternés appelée Atomic Layer Deposition (ALD). À l’issue d’un inventaire des différents matériaux pouvant être déposés par cette technique, il est suivi d’un bref résumé de ses applications principales et émergentes. La technique de dépôt chimique en phase vapeur par flux alternés, plus communément appelée Atomic Laye...
Les articles Recherche et Innovation présentent des technologies en cours de développement, émergentes, qui n'ont pas encore atteint leur pleine maturité pour un développement industriel mais sont prometteuses.
- Article de bases documentaires : RECHERCHE ET INNOVATION
|- 10 oct. 2016
|- Réf : RE259
La simulation à l’échelle atomique permet de prédire, quantifier et interroger avec force détails la chimie des interactions entre atomes et d’en déduire leur organisation à l’échelle des interfaces. Cet article a pour ambition de présenter une démarche de la simulation à l’échelle atomique qui combine calculs quantiques et simulations par Monte Carlo Cinétique respectivement pour prédire la chim...
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- Article de bases documentaires : RECHERCHE ET INNOVATION
|- 10 oct. 2016
|- Réf : RE260
Cet article a pour but de montrer l’intérêt d’une assistance plasma dans un procédé ALD. La première section de cet article permet d’introduire et de définir les plasmas froids ainsi que les réacteurs associés. La seconde section porte sur les avantages d’une assistance plasma dans un procédé ALD. Dans cette section, de nombreux exemples de matériaux déposés par PEALD sont donnés avec à chaque fo...
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