Nathanaëlle SCHNEIDER
Chargée de recherche CNRS - Institut de recherche et développement de l’énergie photovoltaïque (IRDEP), UMR 7174 EDF-CNRS-Chimie ParisTech, Chatou, France - Institut du Photovoltaïque d’Ile de France (IPVF)
Découvrez comment la technologie des dépôts de couches minces ALD répond aux besoins du photovoltaïque. Les performances des couches de passivation d’alumine déposées par ce procédé ouvrent sur ce marché de nouvelles perspectives d’applications commerciales.
Grâce à leurs réactions irréversibles et saturées, les procédés d’ALD permettent de déposer des couches uniformes, minces d’épaisseur et de composition contrôlée. Découvrez les avantages et les nombreuses applications industrielles de cette technique de dépôt chimique.