Article

1 - PROPRIÉTÉS DU CARBURE DE SILICIUM (SIC)

2 - MODÉLISATION DES DIODES SCHOTTKY EN RÉGIME DIRECT

3 - CONCLUSION

Article de référence | Réf : D3119 v1

Propriétés physiques et électroniques du carbure de silicium (SiC)

Auteur(s) : Christophe RAYNAUD

Date de publication : 10 mai 2007

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RÉSUMÉ

Près d’un siècle après la découverte de ses propriétés semi-conductrices en 1907, le carbure de silicium apparaît sur la scène économique avec la mise sur le marché des premiers composants commerciaux : les diodes Schottky en 2002 et les transistors JFET peu après, ainsi que les MESFET dans le domaine des hyperfréquences. Le prix très élevé des substrats et couches épitaxiées rend impératif d’avoir des simulations numériques très précises des comportements en régime statique et dynamique des composants. En effet, plus les simulations sont précises, plus on peut espérer réduire le nombre d’essais avant de réussir les composants.

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ABSTRACT

Almost a century after the discovery of its semi-conductive properties in 1907, the silicon carbide appeared on the economic scene with the placing on the market of the first commercial compounds: the Schottky diodes in 2002 and the JFET transistors shortly after as well as the MESFETs in the hyperfrequency field. The extremely high price of substrates and epitaxial layers requires very precise numerical simulations of behaviors in the static and dynamic regime of compounds. Indeed the more precise the simulations, the lesser the number of tests before the compounds are achieved.

Auteur(s)

INTRODUCTION

Près d’un siècle après la découverte de ses propriétés semi-conductrices en 1907, le carbure de silicium apparaît sur la scène économique avec la mise sur le marché des premiers composants commerciaux : les diodes Schottky en 2002 et les transistors JFET peu après, ainsi que les MESFET dans le domaine des hyperfréquences. Le prix très élevé des substrats et couches épitaxiées rend impératif d’avoir des simulations numériques très précises des comportements en régime statique et dynamique des composants. En effet, plus les simulations sont précises, plus on peut espérer réduire le nombre d’essais avant de réussir les composants.

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DOI (Digital Object Identifier)

https://doi.org/10.51257/a-v1-d3119


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BIBLIOGRAPHIE

  • (1) - JACQUIER (C.) -   Nouvelles approches de la croissance épitaxiale de SiC : transport chimique en phase vapeur (CVT) et techniques à partir d’une phase liquide Al–Si.  -  Thèse de doctorat, Univ. Claud Bernard, LYON 1, 220 p., soutenue le 18 déc. 2003.

  • (2) - KONSTANTINOV (A.O.) et al -   *  -  Appl. Phys. Lett., 71, p. 90 (1997).

  • (3) - RAGHUNATHAN (R.), BALIGA (B.J.) -   *  -  Solid-State Electronics., 43, p. 199 (1999).

  • (4) - SHOCKLEY (W.) -   *  -  Solid-State Electron., 2, p. 35 (1961).

  • (5) - CHYNOWETH (A.G.) -   *  -  Phys. Rev., 109, p. 1537 (1958).

  • (6) - KONSTANTINOV (A.O.) et al -   *  -  J. Electron. Mater., 27, p. 335 (1998).

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