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PACVD : définition

Technique de dépôt sous vide par voie gazeuse utilisant l’énergie des ions et des électrons d’un plasma pour activer les réactions chimiques.

PACVD dans les ressources documentaires

  • Article de bases documentaires
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  • 10 sept. 2011
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  • Réf : M1221

Traitements thermochimiques superficiels

des procédés : CVD (dépôt chimique en phase vapeur) ; PVD (dépôt physique en phase vapeur) ; PACVD...

Les articles de référence permettent d'initier une étude bibliographique, rafraîchir ses connaissances fondamentales, se documenter en début de projet ou valider ses intuitions en cours d'étude.

  • Article de bases documentaires
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  • 10 juin 2014
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  • Réf : M1663

Dépôts sous vide par procédés plasma

Les procédés de dépôt sous vide par procédés plasma ont connu un essor important au cours des décennies passées : au niveau technologique avec l'introduction de plusieurs nouvelles sources et au niveau applicatif avec un chiffre d'affaires qui a bondi ces dernières décennies dans le domaine des applications mécaniques. Dans cet article, sont traités les différentes configurations plasma, les méth...

Les articles de référence permettent d'initier une étude bibliographique, rafraîchir ses connaissances fondamentales, se documenter en début de projet ou valider ses intuitions en cours d'étude.

  • ARTICLE INTERACTIF
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  • 10 juin 2014
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  • Réf : TRI5130

Intérêts tribologiques des dépôts DLC (Diamond Like Carbon)

(a-C et ta-C). L'utilisation de procédés hybrides PVD / PACVD (voir § 1.2.1.2) permettent de faire... ). Afin de réduire les températures de travail, le procédé CVD est généralement assisté par plasma (PACVD... est majoritairement faite grâce aux méthodes PACVD (parfois couplées avec des techniques d'évaporation – PVD... ou en PACVD, la croissance du film est pilotée par les interactions entre la surface du substrat...

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