Janvier 2017
Principes et applications de la technique ALD (Atomic layer deposition)
L’ALD, un procédé de choix pour un grand nombre d’applications industrielles
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de dépôt chimique en phase vapeur par flux alternés, plus communément appelée Atomic Layer Deposition (ALD... Cet article détaille le principe de la méthode de dépôt chimique par flux alternés appelée Atomic... par couche atomique (ALD, Atomic Layer Deposition) Domaines d’application : Matériaux, Couches minces... de l’épaisseur même sur une grande surface. La technique de dépôt chimique par flux alternés, dit ALE ( Atomic...
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, on doit considérer la simulation à l’échelle atomique comme un moyen alternatif de caractérisation in silico... modélisation à l'échelle atomique... La simulation à l’échelle atomique permet de prédire, quantifier et interroger avec force détails... la chimie des interactions entre atomes et d’en déduire leur organisation à l’échelle des interfaces...
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dépôt par couche atomique... dépôt par couche atomique spatiale... , TNO, Kodak Contact : [email protected] Dans l’ Atomic Layer Deposition... , une séparation efficace par le flux de gaz/zone inerte doit être assurée. L’étude analytique de la dynamique...
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