Chimie et Biotech
Janvier 2017
Principes et applications de la technique ALD (Atomic layer deposition)
L’ALD, un procédé de choix pour un grand nombre d’applications industrielles
- Article de bases documentaires : RECHERCHE ET INNOVATION |
- 10 oct. 2016 |
- Réf : RE253
Atomic Layer Deposition (ALD)
de dépôt chimique en phase vapeur par flux alternés, plus communément appelée Atomic Layer Deposition (ALD... Cet article détaille le principe de la méthode de dépôt chimique par flux alternés appelée Atomic... par couche atomique (ALD, Atomic Layer Deposition) Domaines d’application : Matériaux, Couches minces... de l’épaisseur même sur une grande surface. La technique de dépôt chimique par flux alternés, dit ALE ( Atomic...
Les articles Recherche et Innovation présentent des technologies en cours de développement, émergentes, qui n'ont pas encore atteint leur pleine maturité pour un développement industriel mais sont prometteuses.
