Bibliographie & annexes
Présentation
En anglais
RÉSUMÉ
La miniaturisation joue un rôle de plus en plus important dans l’industrie de la microélectronique, mais elle est également utilisée en télécommunication, en microbiotique ou encore en chimie. Cet article propose tout d’abord quelques définitions et une classification des méthodes. La méthode de l’analyse de procédés (corrélation géométrique, aspect rhéologique, choix du polymère et finition du profil) est proposée. La fabrication des moules est ensuite passée en revue : écriture et gravure de motifs, traitement de surface et duplication de moule. L’évaluation de performance est analysée au travers de la résolution, de l’homogénéité, du contrôle de dimension critique, du précision de positionnement, etc.
Lire cet article issu d'une ressource documentaire complète, actualisée et validée par des comités scientifiques.
Lire l’articleABSTRACT
Miniaturization is playing an increasingly important role in the industry of microelectronics and is also used in telecommunications, micro biota and chemistry. This article commences by offering a few definitions and a classification of methods. The method of process analysis (geometrical correlation, rheological aspect, choice of the polymer and finishing of the profile) is provided. The manufacture of molds is then reviewed: pattern writing and engraving, surface treatment and mold duplication. Performance assessments are analyzed through resolution, homogeneity, critical dimension control, precision of positioning, etc.
Auteur(s)
INTRODUCTION
La miniaturisation est un concept moteur qui a conduit l'industrie de la microélectronique, depuis ces vingt dernières années, à augmenter le taux d'intégration jusqu'à 100 millions de transistors par puce, avec une taille minimale de traits proche de 100 nm. La miniaturisation est aussi un concept de grande envergure. Elle joue un rôle de plus en plus important pour la réalisation d'autres types de composants utilisés dans la télécommunication, la microrobotique, la chimie, la biologie et la recherche biomédicale.
L'expertise technique et scientifique de référence
DOI (Digital Object Identifier)
CET ARTICLE SE TROUVE ÉGALEMENT DANS :
Accueil > Ressources documentaires > Sciences fondamentales > Nanosciences et nanotechnologies > Nanomatériaux : synthèse et élaboration > Nanoimpression et nanomoulage > Évaluation de performance
Cet article fait partie de l’offre
Nanosciences et nanotechnologies
(150 articles en ce moment)
Cette offre vous donne accès à :
Une base complète d’articles
Actualisée et enrichie d’articles validés par nos comités scientifiques
Des services
Un ensemble d'outils exclusifs en complément des ressources
Un Parcours Pratique
Opérationnel et didactique, pour garantir l'acquisition des compétences transverses
Doc & Quiz
Des articles interactifs avec des quiz, pour une lecture constructive
Présentation
Définitions
En anglais
6. Évaluation de performance
L'intérêt de la nanoimpression et du nanomoulage repose sur leurs très hautes résolutions et leurs procédés parallèles. Les méthodes présentées ci-dessus sont en pleine évolution et il est difficile d'évaluer leurs performances de façon définitive. Actuellement, les performances des techniques de nanoimpression sont en compétition avec d'autres méthodes avancées de lithographie. C'est pour cette raison que l'accent sera mis sur les deux techniques de nanoimpression.
6.1 Résolution
En nanoimpression, il n'y a pas de limitation apparente. Les expériences de nanoimpression thermique ont montré une résolution de quelques nanomètres pour une période aussi petite que 40 nm. Notons que ces expériences ont été effectuées jusqu'au transfert des motifs : une empreinte dans une couche de polymère, sans le transfert dans un substrat, ne sera pas considérée comme une démonstration de lithographie complète, sauf si le profil des motifs est comparable à celui obtenu par d'autres méthodes de lithographie standard. Les expériences de nanoimpression thermique à tricouche ont confirmé que la duplication de motifs de taille de 50 nm et de période de 100 nm est garantie au laboratoire de recherche. La duplication de motifs de plus petites taille et période est nettement plus difficile mais faisable. Dans ce cas, la qualité des moules et le contrôle de l'épaisseur de résine (très faible) et de gravure sont les deux facteurs critiques. La figure 9 montre un exemple de duplication réalisée par nanoimpression thermique tricouche. Le réseau de plots observé, de période de 60 nm, a été obtenu par nanoimpression thermique, suivie d'un dépôt d'une couche de nickel et d'une dissolution de résine (lift-off ). Par rapport à cette méthode, la nanoimpression assistée par UV donne pour l'instant une moins bonne résolution. En effet, la plupart des expériences ont été faites avec (ou sans) transfert par gravure ionique, démontrant une résolution typique de 50 nm. En utilisant la technique tricouche, un lift-off de motifs de 50 à 100 nm a été également démontré.
HAUT DE PAGE6.2 Homogénéité
La...
L'expertise technique et scientifique de référence
Cet article fait partie de l’offre
Nanosciences et nanotechnologies
(150 articles en ce moment)
Cette offre vous donne accès à :
Une base complète d’articles
Actualisée et enrichie d’articles validés par nos comités scientifiques
Des services
Un ensemble d'outils exclusifs en complément des ressources
Un Parcours Pratique
Opérationnel et didactique, pour garantir l'acquisition des compétences transverses
Doc & Quiz
Des articles interactifs avec des quiz, pour une lecture constructive
Évaluation de performance
BIBLIOGRAPHIE
-
(1) - RAI-CHOUDHURY (P.) (Ed.) - * - Handbook of Microlithography, Microfabrication and Microsystems, vol 1 & 2, SPEI Press (1997).
-
(2) - KRAUSS (P.R.), CHOU (S.Y.) - * - J. Vac. Sci. Technol. B 13, p. 2850 (1995).
-
(3) - CHOU (S.Y.), KRAUSS (P.R.), RENSTROM (P.J.) - * - Science. 85, p. 272 (1996).
-
(4) - * - International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS), Edition 2003.
-
(5) - BAO (L.R.), CHENG (X.), HUANG (X.D.), GUO (L.J.), PANG (S.W.), YEE (A.F.) - * - J. Vac. Sci. Technol. B 20, p. 2881 (2002).
-
(6) - HAISMA (J.), VERHEIJEN (M.), VAN DEAN HEUVEL (K.), VAN DEN BERG (J.) - * - J. Vac. Sci. Technol. B 14, p. 4124 (1996).
-
...
L'expertise technique et scientifique de référence
Cet article fait partie de l’offre
Nanosciences et nanotechnologies
(150 articles en ce moment)
Cette offre vous donne accès à :
Une base complète d’articles
Actualisée et enrichie d’articles validés par nos comités scientifiques
Des services
Un ensemble d'outils exclusifs en complément des ressources
Un Parcours Pratique
Opérationnel et didactique, pour garantir l'acquisition des compétences transverses
Doc & Quiz
Des articles interactifs avec des quiz, pour une lecture constructive
