Article de référence | Réf : NM545 v1

(Nano)structuration douce de surfaces

Auteur(s) : Philippe LECLERE, Pascal VIVILLE, Roberto LAZZARONI

Date de publication : 10 janv. 2005

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RÉSUMÉ

C’est dans un contexte où les nanotechnologies permettent la création et l’utilisation de matériaux, d’instruments et de systèmes portant sur la matière à des dimensions de l'ordre de 1 à 100 nanomètres, que la nanostructuration est étudiée. Les limites des technologies actuelles seront bientôt dépassées. Ainsi, en illustration est présenté l’étape cruciale de la création de nanostructures : (nano) lithographie, transfert de masque, impression par jet d’encre, techniques hybrides, écriture via microscopie(s) à sonde locale et utilisation de motifs obtenus au départ d’un copolymère à blocs. La conception et la réalisation de circuits moléculaires font elles aussi partie des avancées concernées par ces nouveaux matériaux.

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ABSTRACT

Nanostructuring is studied within a context where nanotechnologies allow for the creation and use of materials, devices and systems concerning matter from 1 to 100 nanometers. The boundaries of current technologies are soon to be pushed. The crucial stage of the creation of nanostructures is thus illustrated: (nano)lithography, mask transfer, jet-ink impression, hybrid techniques, writing via local probe microscopy block copolymer. The design and production of molecular circuits are also included in advances concerned by these new materials.

INTRODUCTION

La course à la miniaturisation des dispositifs électroniques est lancée depuis quelques temps. Dans un avenir proche, les limites des technologies actuellement employées pour la fabrication de circuits intégrés par lithographie conventionnelle seront atteintes. Cet article présente quelques pistes intéressantes pour dépasser ces limites.

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DOI (Digital Object Identifier)

https://doi.org/10.51257/a-v1-nm545


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BIBLIOGRAPHIE

  • (1) - BRITTAIN (S.), PAUL (K.), ZHAO (X.-M.), WHITESIDES (G.M.) -   Soft lithography and microfabrication.  -  Physics World 1998, 11, 31-36.

  • (2) - XIA (Y.), WHITESIDES (G.M.) -   Soft lithography.  -  Annu. Rev. Mater. Sci. 1998, 153-184.

  • (3) - BATES (F.S.), FREDRIKSSON (G.H.) -   *  -  Ann. Rev. Phys. Chem. 41 (1990).

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