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RÉSUMÉ
C’est dans un contexte où les nanotechnologies permettent la création et l’utilisation de matériaux, d’instruments et de systèmes portant sur la matière à des dimensions de l'ordre de 1 à 100 nanomètres, que la nanostructuration est étudiée. Les limites des technologies actuelles seront bientôt dépassées. Ainsi, en illustration est présenté l’étape cruciale de la création de nanostructures : (nano) lithographie, transfert de masque, impression par jet d’encre, techniques hybrides, écriture via microscopie(s) à sonde locale et utilisation de motifs obtenus au départ d’un copolymère à blocs. La conception et la réalisation de circuits moléculaires font elles aussi partie des avancées concernées par ces nouveaux matériaux.
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INTRODUCTION
La course à la miniaturisation des dispositifs électroniques est lancée depuis quelques temps. Dans un avenir proche, les limites des technologies actuellement employées pour la fabrication de circuits intégrés par lithographie conventionnelle seront atteintes. Cet article présente quelques pistes intéressantes pour dépasser ces limites.
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BIBLIOGRAPHIE
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(1) - BRITTAIN (S.), PAUL (K.), ZHAO (X.-M.), WHITESIDES (G.M.) - Soft lithography and microfabrication. - Physics World 1998, 11, 31-36.
-
(2) - XIA (Y.), WHITESIDES (G.M.) - Soft lithography. - Annu. Rev. Mater. Sci. 1998, 153-184.
-
(3) - BATES (F.S.), FREDRIKSSON (G.H.) - * - Ann. Rev. Phys. Chem. 41 (1990).
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