Bibliographie & annexes
Présentation
En anglais
RÉSUMÉ
La microélectronique est en quête perpétuelle de miniaturisation, et ce dans le but d'améliorer les performances des dispositifs tout en diminuant leur coût de fabrication. La modélisation des nano-objets est ainsi une voie prometteuse dans des domaines tels que les lasers, les nouvelles technologies de l’information et de la communication ou encore la biodétection. Cet article propose un aperçu de l’évolution des nanotechnologies dans un premier temps. Les différents dispositifs mis en oeuvre et les limites physiques et technologiques de cette modelisation sont par la suite passés en revue. Ainsi, l’auto-organisation spontanée ou encore l’application des boîtes quantiques sont autant d’aspects détaillés.
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Miniaturization is essential in microelectronics, in order to improve the performances of devices whilst at the same time decreasing production costs. The modeling of nanoobjects is thus promising for sectors such as lasers, new information, communication technologies and biodetection. This article starts by providing an overview of the evolution of nanotechnologies. The various devices implemented as well as the physical and technological limits of such modeling are then reviewed. Spontaneous self-organization or the application of quantum boxes are thus detailed.
Auteur(s)
INTRODUCTION
La naissance spontanée de formes dans la nature est une voie prometteuse dans la fabrication des nanostructures pour les technologies du futur amenées à être utilisées dans des domaines aussi variés que les lasers, les nouvelles technologies de l'information et de la communication, la biodétection, les ordinateurs quantiques... Pour ce faire, on doit comprendre cette nature pour la mettre dans les conditions nécessaires afin qu'elle produise spontanément les architectures, ou moules, nanométriques souhaitées.
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Conquérir un nanomonde !
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4. Fabrication de nanostructures par la technique de photolithographie
Sur la photolithographie :
Filtres à ondes de surface [E 2 200] de P. Defranould et P. Wright
Microscopie optique en champ proche [P 862] de D. Van Labeke
À défaut de disposer de machines intelligentes, comme le fait la nature, qui permettent de fabriquer sur une échelle de temps raisonnable des nanostructures, on a dû imaginer des procédés suffisamment rapides et efficaces pour les produire à l'échelle des besoins de la recherche fondamentale et des applications industrielles. La méthode la plus courante est basée sur la photolithographie. Cette méthode, dans le cas des semi-conducteurs, désigne l'ensemble des opérations permettant de délimiter l'extension latérale des matériaux sur la surface d'un substrat semi-conducteur, dont la structure est plus ou moins bidimensionnelle car basée sur l'empilement de couches à la surface d'une plaquette de silicium. Cette méthode est basée sur l'utilisation d'une radiation UV (ultraviolette) et des masques pour définir le motif que l'on souhaite reproduire sur la plaquette.
Plus précisément, cette opération consiste à déposer une résine photosensible en film mince (quelques fractions de micromètre à plusieurs micromètres), uniforme, de grande qualité et fortement adhérent. Ces résines sont des composés organiques (généralement des polymères thermoplastiques) dont la solubilité est affectée par le rayonnement UV. Il existe deux types de résines :
-
les résines négatives pour lesquelles le rayonnement UV entraîne une polymérisation des zones exposées, conférant ainsi à ces zones une tenue particulière au solvant de révélation alors que les parties non insolées disparaissent sélectivement dans ce solvant ;
-
les résines positives pour lesquelles le rayonnement UV entraîne une...
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Fabrication de nanostructures par la technique de photolithographie
BIBLIOGRAPHIE
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(1) - MEINDL (D.), CHEN (Q.), DAVIS (A.) - Limits on silicon nanoelectronics for terascale integration. - A computer science odyssey, Science, vol. 293 ; no 5537 ; p. de 2044 à 2049 (2001).
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(3) - ORLOV (A.O.), KUMMAMURU (R.), RAMASUBRAMANIAM (R.), LENT (C.S.), BERNSTEIN (G.H.), SNIDER (G.L.), WANDELT (K.) - Clocked quantum-dot cellular automata shift register. - Surface science, vol. 532-35 ; p. de 1193 à 1198 (2003).
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