1 - CONTEXTE

2 - CRÉATION DE NANOSTRUCTURES

• 2.1 - (Nano) lithographie
  Figure 1 - Principe de la photolithographie optique conventionnelle Figure 2 - Fabrication d’un moule en élastomère
• 2.2 - Transfert de masque (Micro-Contact Printing)
  Figure 3 - Principe de reprographie d’un motif nanostructuré sur un substrat plat ou courbé Figure 4 - Principe de l’attaque chimique ou dépôt de couche(s) supplémentaire(s)
• 2.3 - Impression par jet d’encre (Ink Jet Printing)
  Figure 5 - Schéma de principe d’une tête d’imprimante à jet d’encre Figure 6 - Nanogouttes produites par une « imprimante à jet d’encre »
• 2.4 - Techniques hybrides
  Figure 7 - Texturation par capillarité (MIMIC) Figure 8 - Texturation par capillarité (SAMIN) Figure 9 - Écriture avec un STM
• 2.5 - Écriture via microscopie(s) à sonde locale
  Figure 10 - Écriture avec un AFM Figure 11 - Écriture avec un SNOM
• 2.6 - Utilisation de motifs obtenus au départ d’un copolymère à blocs

3 - CONCEPTION ET RÉALISATION DE CIRCUITS MOLÉCULAIRES...