Thomas FIX

Chargé de recherche au CNRS - Laboratoire ICube, - Université de Strasbourg et CNRS, Strasbourg, France

  • Article de bases documentaires : E4216 (relu et validé)

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    Dépôt par ablation laser pulsé

    Découvrez les mécanismes mis en jeu, ainsi que les paramètres importants du procédé par ablation laser pulsé. Peu utilisée encore dans l’industrie, cette technique de dépôt physique en phase vapeur consiste à focaliser un laser de haute puissance sur une cible contenant les espèces chimiques du matériau à déposer. Des dépôts de grande qualité structurale peuvent être obtenus assez facilement.