Le procédé mis au point par Solnowatt remplace le traitement chimique par voie humide par l’utilisation d’une gravure à sec à pression ambiante. Le gaz de gravure utilisé est du fluor, activé thermiquement à l’intérieur du réacteur où va se réaliser la gravure. Il n’y a donc pas besoin ni de plasma, ni de vide. Le réacteur, monoface, applique la gravure sur un seul côté et ce procédé permet d’économiser du silicium car il limite les pertes. Au final, les cellules sont plus sombres et plus efficaces pour absorber les photons.
Des atouts compétitifs pour l’Europe
La baisse des coûts de production par l’emploi de ce nouveau procédé est estimé à 25%. Le procédé, breveté sous le nom de ADE (Atmospheric Dry Etching) est polyvalent. Il a permis aux partenaires du projet de créer toute une gamme de texture dans différentes configurations de production, validant l’utilisation de cette technologie sur des pilotes industriels et prouvant la plus grande efficacité des cellules produites. En outre, son aspect foncé permet une meilleure intégration à de nombreux matériaux de construction, encourageant son emploi. La société, Nines PV, créée à la fin du projet assure désormais la promotion et la commercialisation de la technologie auprès de grands acteurs industriels.
Sophie Hoguin
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